일시: 2024년 12월 4일(수), 15시

장소: 대한상공회의소 소회의실 4(지하2층)

당 법인의 유용혁 변리사가 특허 기반 반도체 공정가스 TDLAS 기술에 대한 발표를 진행했습니다.

TDLAS 기술은 파장 가변 다이오드 레이저를 이용하여 기체 분자가 가진 고유한 흡수 스펙트럼을 측정함으로써 특정 기체 농도(예. 온실가스, 대기오염 물질)를 모니터링하는 기술입니다.

TDLAS는 NDIR, FTIR, QMS 등과 비교하면 비교적 최신 기술이기 때문에 종래 분야에서 많은 특허를 확보한 기업들의 포트폴리오를 참고하여 응용 기술들에 대한 특허를 확보하는 것이 중요하겠습니다. 

관련 내용에 대해 더 궁금한 부분이 있다면 당 법인 유용혁 변리사(yhyoo@youngbeeip.com, 02-3454-0971)에게 연락 바랍니다.